7月14日消息，据报道，KeyBanc Capital Markets的分析报告显示，Intel 18A工艺的良率已从上一季度的50%提升至55%，与竞争对手的对比中脱颖而出。
相比之下，三星的2nm工艺（SF2）目前的良率大约在40%左右，而Intel 18A工艺的良率已经超越了三星2nm。
虽然仍低于台积电N2的65%，但已具备Q4 2025量产（HVM）条件，届时其良率有望进一步提升至70%，这将为Intel下一代移动CPU的生产提供有力支持。
虽然Intel的良率预计不会超越台积电，但拥有一个功能强大的制程就足够该公司所用了。
Intel 18A工艺的进步不仅有助于其内部产品的开发，如即将推出的Panther Lake系列，还为未来向外部客户提供服务奠定了基础。
Intel计划在18A工艺取得成功后，逐步向14A工艺过渡，以进一步提升其在高端芯片市场的竞争力。
本文转载于快科技，文中观点仅代表作者个人看法，本站只做信息存储
阅读前请先查看【免责声明】本文内容由互联网用户自发贡献，该文观点仅代表作者本人，本站仅供展示。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容，请发送邮件至 1217266901@qq.com 举报，一经查实，本站将立刻删除。 转载请注明出处：https://m.jingfakeji.com/tech/92944.html
